高纯陶瓷靶材

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磁控靶材

根据材料的成分不同,靶材可分为金属靶材、合金靶材、无机非金属靶材等。其中无机非金属靶材又可分为氧化物、硅化物、氮化物和氟化物等不同种类靶材。根据几何形状的不同,靶材可分为长(正)方体形靶材、圆柱体靶材和不规则形状靶材;此外,靶材还可以分为实心和空心两种类型靶材。

目前靶材最常用的分类方法是根据靶材应用领域进行划分,主要包括半导体领域应用靶材、记录介质应用靶材、显示薄膜应用靶材、光学靶材、超导靶材等。其中半导体领域用靶材、记录介质用靶材和显示靶材是市场需求规模最大的三类靶材。

磁控溅射靶材主要应用于电子及信息产业,如集成电路、信息储存、液晶存储、液晶显示器、电子控制器件等,亦可应用于玻璃镀膜领域,还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、化学电镀、金属泡沫材料、高档装饰用品等行业。

在信息存储产业中,使用溅射靶材制备的相关薄膜产品有硬盘、磁头、光盘(CD-R,CD,DVD)、磁光相变光盘(MO,C-RW,DVD-KAM)。

磁控溅射靶材的制备技术方法按生产工艺可分为熔融铸造法和粉末冶金法两大类,在靶材的制备过程中,除严格控制材料的纯度、致密度、晶粒度以及结晶取向之外,对热处理工艺条件、后续成型加工过程亦需要加以严格的控制,以保证靶材的质量。


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